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12英寸半导体单晶硅炉

产品编号
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主要应用于8-12英寸半导体硅片制造,通过配备自主研发晶体生长控制、热场系统,能够满足不同技术规格半导体级硅片的生长及制造要求。
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12英寸半导体单晶硅炉
产品描述

设备具有高稳定性、高真空度、高可靠性的结构设计,配备自主研发的功率控制、锁拉速等生长控制算法,热场系统具有高水平微缺陷控制能力,配合水冷套、超导磁场及基础工艺包,生长晶体可满足COP-FREE硅片指标要求,能够满足不同技术规格半导体级硅片的生长及制造要求。

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