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SCMC8150多片MOCVD外延生长炉,可用于6/8寸碳化硅外延生长，终端产品应用于功率电子、射频通信和光电子等高技术领域，尤其是在需要耐高压、耐高温、高频和高效率的场景中表现尤为突出。本设备成膜均匀性好、自动化程度高，产能优势突出，适合批量化生产。
SCML320A水平式碳化硅外延炉，用于6/8寸碳化硅外延生长，终端产品应用于功率电子、射频通信和光电子等高技术领域，尤其是在需要耐高压、耐高温、高频和高效率的场景中表现尤为突出。本设备工艺成熟稳定，耗材匹配性强，设备操作简单，配套EFFM装料机构，可实现自动化生产。
SCMLD335双腔碳化硅外延炉，用于6/8寸碳化硅外延生长，终端产品应用于功率电子、射频通信和光电子等高技术领域，尤其是在需要耐高压、耐高温、高频和高效率的场景中表现尤为突出。设备结构紧凑，占地面积小。热场兼容性高、清理与维护操作简省力。