产品中心

← 返回上一级
碳化硅涂层设备

碳化硅涂层设备

TC-SCR2295真空炉设备采用化学气相沉积（CVD）工艺，通过在高温和受控气氛条件下，于石墨或碳基等基材表面沉积高纯度、致密的碳化硅（SiC）涂层，采用多段电阻加热方式，实现对料区内部的精准控温。具备多样可选的进气方式和温流场控制、工艺稳定性高、高可靠传动结构与集成设计等特点。 终端产品主要应用于半导体设备（等离子体刻蚀机、薄膜沉积（CVD/PVD）设备、外延反应器等）核心工艺腔室内的关键耗材与部件防护场景；在光伏行业、航空航天军工领域也有广泛应用，是上述高端制造业中提升核心部件寿命、保障工艺安全与稳定、降低综合成本的关键支撑技术。
< 1 >