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高压炉通用平台
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高压炉通用平台

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产品描述

产品简介

  高压长晶炉采用电阻加热方式,专为高压环境下采用熔液提拉法生长碲锌镉、磷化铟、砷化镓晶体设计。设备主要由机架组件、炉室组件、加热系统、籽晶驱动系统、坩埚驱动系统、炉盖开盖机构、气路系统、真空系统、冷却系统、自动控制系统、报警系统及人机交互系统构成。设备搭载自主研发的全自动计算机控制系统,可实现抽真空、检漏、炉压调节、工艺气体配比及晶体生长全流程自动化控制。

  终端产品广泛应用于光通信、高频射频、光电传感、航空航天、量子技术等高端领域,是制备关键半导体衬底材料的核心装备。

 

产品特点

  1、承载压力高,最高达4.5MPa,有效抑制组分挥发;

  2、承受高压同时,坩埚高精度升降与旋转运动,全程密封无泄漏、运行稳定可靠

  3、多段式加热结构,可精准调控温度梯度

  4、配备完善的程序联锁保护系统,全方位保障运行安全、降低操作风险,为产品规模化、标准化生产提供坚实支撑。

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